极紫外光刻技术是近年来最复杂的技术创新之一。 极紫外光刻设备对于生产更小、更强大的微芯片至关重要，但其耗电量巨大。 更糟糕的是，它们对电力的渴求预计在未来几年只会大幅增长。

根据 TechInsights 最近的一份报告，tp钱包到 2030 年，配备 EUV 工具的晶圆厂每年的耗电量将超过54000 千兆瓦时 (GWh)。 从这个角度来看，这比新加坡或希腊等小国的总用电量还要多。